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Titolo Data di pubblicazione Autore(i) File
Second-harmonic free induction decay in a two-level spin system 1-gen-1983 R., Boscaino; F. M., Gelardi; Messina, Giacomo
Oscillatory behaviour of two-photon echo signals, Phys.Lett. 97A (1983) 413-416 1-gen-1983 R., Boscaino; F. M., Gelardi; Messina, Giacomo
Double-quantum nutations in a two-level spin system 1-gen-1983 R., Boscaino; F. M., Gelardi; Messina, Giacomo
Double-quantum nutations in a two-level spin system", Phys. Rev.B33 (1986) 3076-3082 1-gen-1986 R., Boscaino; F. M., Gelardi; Messina, Giacomo
Double-quantum coherent transients in a two-level spin system: a vectorial model 1-gen-1986 R., Boscaino; Messina, Giacomo
X-ray mask making and Monte Carlo analysis of a single-resist layer process on low-Z membrane 1-gen-1988 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; G., Petrocco; Santangelo, Saveria
The radiation-matter interaction in the space-translation method 1-gen-1988 Messina, Giacomo; P., Cavaliere; G., Ferrante
Scattering elettronico in litografia a raggi-X 1-gen-1989 Messina, G.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A.; Paoletti, A.
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layer process on Si substrates 1-gen-1989 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography 1-gen-1989 Gentili, M.; Lucchesini, A.; Lugli, P.; Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.; Petrocco, G.
X-ray mask making by EBL and Monte Carlo analysis of a single-resist layerprocess on low-Z membrane 1-gen-1989 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; G., Petrocco; Messina, Giacomo
Modeling of electron beam scattering in high resolution lithography for thefabrication of x-ray masks 1-gen-1990 Gentili, M.; Lucchesini, A.; Scopa, L.; Lugli, P.; Paoletti, A.; Messina, G; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution 1-gen-1990 F., Carcenac; A. M., Haghiri-Gosnet; Messina, Giacomo; A., Paoletti; F., Rousseaux; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layerprocess on Si substrates 1-gen-1990 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Electron and Photon Collisions in Strong Laser Fields 1-gen-1990 R., Daniele; Messina, Giacomo; F. MORALES AND G., Ferrante
Plasma Heating by a Strong Laser Field with Statistically Distributed Parameters 1-gen-1991 R., Daniele; Messina, Giacomo; G., Ferrante
Plasma heating by a strong laser field with statistically distributed parameters (1991) Il Nuovo Cimento D, 13 (5) 1-gen-1991 Daniele, R; Messina, Giacomo; Ferrante, G.
Monte Carlo analysis of electron scattering in microstructure processes in the 0.2 μm region 1-gen-1991 Messina, G; Santangelo, S.; Tucciarone, A.; Paoletti, A.
Simulazione Monte Carlo dello scattering elettronico nella realizzazione di maschere per raggi-X con tecniche additive 1-gen-1991 Messina, G.; Santangelo, Saveria; Paoletti, A.; Tucciarone, A.
“Short-range and long-range scattering in e-beam lithography” 1-gen-1991 Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
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