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Studio della struttura elettronica dei compost lamellari FePS3 and NiPS3
1984-01-01 M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia
“Study of the valence bands of FePS3 and NiPS3 by resonant-photoemission spectroscopy”
1984-01-01 M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia
“Soft x-ray absorption of FePS3 and NiPS3”
1984-01-01 M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, S; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia
Trasporto elettrico in tiofosfati di metalli di transizione
1986-01-01 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
Experimental studies of the valence and conduction states of the transition metal thiophosphates
1986-01-01 V., Grasso; Santangelo, Saveria; S., Modesti; M., Fanfoni; M., Piacentini
“M2,3 absorption spectra of transition metal ion in MnPS3, FePS3 and NiPS3”
1986-01-01 V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
“Valence and conduction bands in MPS3 layered compounds studied by synchrotron radiation”
1986-01-01 V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
“Optical absorption spectra of some transition metal thiophosphates”
1986-01-01 V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
Struttura elettronica del tiofosfato di Nickel
1987-01-01 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini
X-ray mask making and Monte Carlo analysis of a single-resist layer process on low-Z membrane
1988-01-01 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; G., Petrocco; Santangelo, Saveria
“Electronic transport properties of NiPS3”
1988-01-01 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini
Scattering elettronico in litografia a raggi-X
1989-01-01 Messina, G.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A.; Paoletti, A.
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layer process on Si substrates
1989-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography
1989-01-01 Gentili, M.; Lucchesini, A.; Lugli, P.; Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.; Petrocco, G.
X-ray mask making by EBL and Monte Carlo analysis of a single-resist layerprocess on low-Z membrane
1989-01-01 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; G., Petrocco; Messina, Giacomo
Electronic conduction in the layered semiconductor MnPS3
1989-01-01 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini
Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution
1990-01-01 F., Carcenac; A. M., Haghiri-Gosnet; Messina, Giacomo; A., Paoletti; F., Rousseaux; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layerprocess on Si substrates
1990-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Modeling of electron beam scattering in high resolution lithography for thefabrication of x-ray masks
1990-01-01 Gentili, M.; Lucchesini, A.; Scopa, L.; Lugli, P.; Paoletti, A.; Messina, G; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
“Short-range and long-range scattering in e-beam lithography”
1991-01-01 Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
---|---|---|---|
Studio della struttura elettronica dei compost lamellari FePS3 and NiPS3 | 1-gen-1984 | M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia | |
“Study of the valence bands of FePS3 and NiPS3 by resonant-photoemission spectroscopy” | 1-gen-1984 | M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia | |
“Soft x-ray absorption of FePS3 and NiPS3” | 1-gen-1984 | M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, S; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia | |
Trasporto elettrico in tiofosfati di metalli di transizione | 1-gen-1986 | V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; M., Piacentini | |
Experimental studies of the valence and conduction states of the transition metal thiophosphates | 1-gen-1986 | V., Grasso; Santangelo, Saveria; S., Modesti; M., Fanfoni; M., Piacentini | |
“M2,3 absorption spectra of transition metal ion in MnPS3, FePS3 and NiPS3” | 1-gen-1986 | V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini | |
“Valence and conduction bands in MPS3 layered compounds studied by synchrotron radiation” | 1-gen-1986 | V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini | |
“Optical absorption spectra of some transition metal thiophosphates” | 1-gen-1986 | V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini | |
Struttura elettronica del tiofosfato di Nickel | 1-gen-1987 | V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini | |
X-ray mask making and Monte Carlo analysis of a single-resist layer process on low-Z membrane | 1-gen-1988 | M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; G., Petrocco; Santangelo, Saveria | |
“Electronic transport properties of NiPS3” | 1-gen-1988 | V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini | |
Scattering elettronico in litografia a raggi-X | 1-gen-1989 | Messina, G.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A.; Paoletti, A. | |
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layer process on Si substrates | 1-gen-1989 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography | 1-gen-1989 | Gentili, M.; Lucchesini, A.; Lugli, P.; Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.; Petrocco, G. | |
X-ray mask making by EBL and Monte Carlo analysis of a single-resist layerprocess on low-Z membrane | 1-gen-1989 | M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; G., Petrocco; Messina, Giacomo | |
Electronic conduction in the layered semiconductor MnPS3 | 1-gen-1989 | V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini | |
Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution | 1-gen-1990 | F., Carcenac; A. M., Haghiri-Gosnet; Messina, Giacomo; A., Paoletti; F., Rousseaux; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria | |
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layerprocess on Si substrates | 1-gen-1990 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
Modeling of electron beam scattering in high resolution lithography for thefabrication of x-ray masks | 1-gen-1990 | Gentili, M.; Lucchesini, A.; Scopa, L.; Lugli, P.; Paoletti, A.; Messina, G; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
“Short-range and long-range scattering in e-beam lithography” | 1-gen-1991 | Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria |
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