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“Study of the valence bands of FePS3 and NiPS3 by resonant-photoemission spectroscopy” 1-gen-1984 M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia
Studio della struttura elettronica dei compost lamellari FePS3 and NiPS3 1-gen-1984 M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia
“Soft x-ray absorption of FePS3 and NiPS3” 1-gen-1984 M., Piacentini; V., Grasso; Santangelo, S; M., Fanfoni; S., Modesti; A., Savoia
“Valence and conduction bands in MPS3 layered compounds studied by synchrotron radiation” 1-gen-1986 V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
“Optical absorption spectra of some transition metal thiophosphates” 1-gen-1986 V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
“M2,3 absorption spectra of transition metal ion in MnPS3, FePS3 and NiPS3” 1-gen-1986 V., Grasso; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
Trasporto elettrico in tiofosfati di metalli di transizione 1-gen-1986 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; M., Piacentini
Experimental studies of the valence and conduction states of the transition metal thiophosphates 1-gen-1986 V., Grasso; Santangelo, Saveria; S., Modesti; M., Fanfoni; M., Piacentini
Struttura elettronica del tiofosfato di Nickel 1-gen-1987 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini
X-ray mask making and Monte Carlo analysis of a single-resist layer process on low-Z membrane 1-gen-1988 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; G., Petrocco; Santangelo, Saveria
“Electronic transport properties of NiPS3” 1-gen-1988 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini
Scattering elettronico in litografia a raggi-X 1-gen-1989 Messina, G.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A.; Paoletti, A.
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layer process on Si substrates 1-gen-1989 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Electronic conduction in the layered semiconductor MnPS3 1-gen-1989 V., Grasso; F., Neri; Santangelo, Saveria; L., Silipigni; M., Piacentini
Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography 1-gen-1989 Gentili, M.; Lucchesini, A.; Lugli, P.; Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.; Petrocco, G.
X-ray mask making by EBL and Monte Carlo analysis of a single-resist layerprocess on low-Z membrane 1-gen-1989 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; G., Petrocco; Messina, Giacomo
Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution 1-gen-1990 F., Carcenac; A. M., Haghiri-Gosnet; Messina, Giacomo; A., Paoletti; F., Rousseaux; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
Modeling of electron beam scattering in high resolution lithography for thefabrication of x-ray masks 1-gen-1990 Gentili, M.; Lucchesini, A.; Scopa, L.; Lugli, P.; Paoletti, A.; Messina, G; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layerprocess on Si substrates 1-gen-1990 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Monte Carlo analysis of electron scattering in microstructure processes in the 0.2 μm region 1-gen-1991 Messina, G; Santangelo, S.; Tucciarone, A.; Paoletti, A.
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