“A new electron scattering model for x-ray lithography applications”

“A new electron scattering model for x-ray lithography applications” / Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo. - (1993), pp. 1-29.

	Anno
	
				1993
			
	Codice ISBN
	
				0-444-89962-6
			
	Appare nelle tipologie:
	
				2.1 Contributo in volume (Capitolo o Saggio)

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12318/11698