Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution / F., Carcenac; A. M., Haghiri-Gosnet; Messina, Giacomo; A., Paoletti; F., Rousseaux; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria. - (1990).
Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution
MESSINA, Giacomo;SANTANGELO, Saveria
1990-01-01
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