Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution / F., C., A. M., H., Messina, G., A., P., F., R., A., T., Santangelo, S.. - (1990).
Electron scattering effects in additive patterning of XRL masks for 0.2 micron resolution
MESSINA, Giacomo;SANTANGELO, Saveria
1990-01-01
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