Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography / Gentili, M.; Lucchesini, A.; Lugli, P.; Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.; Petrocco, G.. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B: MICROELECTRONICS PROCESSING AND PHENOMENA. - ISSN 0734-211X. - 7(1989), pp. 1586-1590.
Titolo: | Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1989 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12318/3933 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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