Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography / Gentili, M.; Lucchesini, A.; Lugli, P.; Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.; Petrocco, G.. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B: MICROELECTRONICS PROCESSING AND PHENOMENA. - ISSN 0734-211X. - 7:(1989), pp. 1586-1590. [10.1116/1.584494]
Electron scattering effects in master mask fabrication by single layer process for submicron x-ray lithography
G. MESSINA;SANTANGELO S;
1989-01-01
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