Evidence for the existence of scaling laws correlating the deposition parameters and the Raman spectra features in thin a-C:N:H films deposited by reactive r.f. sputtering / Messina, G.; Santangelo, Saveria; Fanchini, G.; Tagliaferro, A.. - In: VACUUM. - ISSN 0042-207X. - 67:(2002), pp. 537-542. [10.1016/S0042-207X(02)00245-2]

Evidence for the existence of scaling laws correlating the deposition parameters and the Raman spectra features in thin a-C:N:H films deposited by reactive r.f. sputtering

G. MESSINA;SANTANGELO, Saveria;
2002-01-01

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12318/4065
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