CINECA IRIS Institutional Research Information System
IRIS è la soluzione IT che facilita la raccolta e la gestione dei dati relativi alle attività e ai prodotti della ricerca. Fornisce a ricercatori, amministratori e valutatori gli strumenti per monitorare i risultati della ricerca, aumentarne la visibilità e allocare in modo efficace le risorse disponibili.
EnglishA single-layer additive process on silicon substrates is analyzed by Monte Carlo simulation and proximity effect calculations. Variables discussed are e-beam energy (20 to 40 KeV), resist thickness (10000, 5000 Å) and pattern coverage. A major feature of backscattering is the short-range component from the Au base plating, affecting all types of structures. High pattern coverage is a decisive factor hindering 0.3 um resolution in almost all cases. However 0.3 um lines and spaces are generally resolved at 40 KeV.
| Titolo: | Simulation of 64 megabit lithography in XRL masks obtained by single-layerprocess on Si substrates |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 1990 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12318/4272 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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