CINECA IRIS Institutional Research Information System
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EnglishAn analysis of electron scattering is presented, into short and long range components, and a comparison is made with the conventional decomposition into forward and back scattering. A generalized ν is defined in place of the usual backscattering coefficient. Results are shown, in terms of Monte Carlo simulation, relative to some cases of practical interest. In particular, a quite general system is discussed for master-mask fabrication. The limits of the conventional approach are demonstrated.
| Titolo: | The generalized backscattering coefficient: a novel parameter in electron scattering processes |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 1992 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/20.500.12318/623 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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| File | Descrizione | Tipologia | Licenza | |
|---|---|---|---|---|
| Messina_1992_MicroelectronEng_The generalised-editor.pdf | Articolo principale | Versione Editoriale (PDF) | Tutti i diritti riservati (All rights reserved) | Administrator Richiedi una copia |
http://hdl.handle.net/20.500.12318/623
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