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The generalized backscattering coefficient: a novel parameter in electron scattering processes
1992-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
The radiation-matter interaction in the space-translation method
1988-01-01 Messina, Giacomo; P., Cavaliere; G., Ferrante
The role of electron scattering in x-ray reflection-masks
1994-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
The Role of Graphene-Based Derivative as Interfacial Layer in Graphene/n-Si Schottky Barrier Solar Cells
2019-01-01 Gnisci, A.; Faggio, G.; Lancellotti, L.; Messina, G.; Carotenuto, R; Bobeico, E.; Delli Veneri, P.; Capasso, A.; Dikonimos, T.; Lisi, N.
The structure of chemical vapor deposited graphene substrates for graphene-enhanced Raman spectroscopy
2024-01-01 Faggio, G; Politano, G G; Lisi, N; Capasso, A; Messina, G
Tungsten/carbon masks in x-ray projection lithography
1994-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Vibrational properties and microstructure of reactively sputtered hydrogenated carbon nitrides
2002-01-01 Fanchini, G.; Tagliaferro, A.; Messina, G.; Santangelo, S; Paoletti, A.; Tucciarone, A.
X-ray mask making by EBL and Monte Carlo analysis of a single-resist layerprocess on low-Z membrane
1989-01-01 M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; G., Petrocco; Messina, Giacomo
“Electron scattering of diamond substrates in microsystems”
1996-01-01 Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A.
“Experimental test of high-resolution process modelling in electron-beam lithography at 25 to 50 keV”
1993-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
---|---|---|---|
The generalized backscattering coefficient: a novel parameter in electron scattering processes | 1-gen-1992 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
The radiation-matter interaction in the space-translation method | 1-gen-1988 | Messina, Giacomo; P., Cavaliere; G., Ferrante | |
The role of electron scattering in x-ray reflection-masks | 1-gen-1994 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
The Role of Graphene-Based Derivative as Interfacial Layer in Graphene/n-Si Schottky Barrier Solar Cells | 1-gen-2019 | Gnisci, A.; Faggio, G.; Lancellotti, L.; Messina, G.; Carotenuto, R; Bobeico, E.; Delli Veneri, P.; Capasso, A.; Dikonimos, T.; Lisi, N. | |
The structure of chemical vapor deposited graphene substrates for graphene-enhanced Raman spectroscopy | 1-gen-2024 | Faggio, G; Politano, G G; Lisi, N; Capasso, A; Messina, G | |
Tungsten/carbon masks in x-ray projection lithography | 1-gen-1994 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
Vibrational properties and microstructure of reactively sputtered hydrogenated carbon nitrides | 1-gen-2002 | Fanchini, G.; Tagliaferro, A.; Messina, G.; Santangelo, S; Paoletti, A.; Tucciarone, A. | |
X-ray mask making by EBL and Monte Carlo analysis of a single-resist layerprocess on low-Z membrane | 1-gen-1989 | M., Gentili; A., Lucchesini; P., Lugli; A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; G., Petrocco; Messina, Giacomo | |
“Electron scattering of diamond substrates in microsystems” | 1-gen-1996 | Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A. | |
“Experimental test of high-resolution process modelling in electron-beam lithography at 25 to 50 keV” | 1-gen-1993 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo |
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