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“Short-range and long-range scattering in e-beam lithography”
1991-01-01 Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
Simulazione Monte Carlo dello scattering elettronico in membrane di diamante
1992-01-01 Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A.
Electron scattering in microstructure processes
1992-01-01 Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A.
The generalized backscattering coefficient: a novel parameter in electron scattering processes
1992-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Simulation of electron-scattering properties of diamond membranes in X-ray mask fabrication
1993-01-01 Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
“Monte Carlo evaluation of proximity effect reduction in x-ray reflection masks having diamond substrates”
1993-01-01 Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
“A new electron scattering model for x-ray lithography applications”
1993-01-01 Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Short-range and long-range scattering in electron beam lithography
1993-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
“Evaluation of electron scattering in high-resolution x-ray mask fabrication”
1993-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
“Experimental test of high-resolution process modelling in electron-beam lithography at 25 to 50 keV”
1993-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Electron scattering of low-Z high-density materials in X-ray mask patterning
1993-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Perspectives in electron scattering by microstructures
1993-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Electron scattering of diamond membranes in x-ray mask fabrication
1993-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Ulisation of diamond substrates in microstructure fabrication by electron beam lithography
1994-01-01 Messina, Giacomo; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria
Maschere per litografia X a proiezione con substrati di diamante
1994-01-01 Messina, G.; Santangelo, Saveria; Paoletti, A.; Tucciarone, A.
Tungsten/carbon masks in x-ray projection lithography
1994-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
The role of electron scattering in x-ray reflection-masks
1994-01-01 Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A.
Monte Carlo modelling of electron beam lithography: a scaling law
1994-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Simulation of electron-scattering properties of diamond membranes in X-ray mask fabrication
1994-01-01 Messina, G; Santangelo, S.; Paoletti, A.; Tucciarone, A.
Scaling laws of electron backscattering for microstructure design
1994-01-01 A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo
Titolo | Data di pubblicazione | Autore(i) | File |
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“Short-range and long-range scattering in e-beam lithography” | 1-gen-1991 | Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria | |
Simulazione Monte Carlo dello scattering elettronico in membrane di diamante | 1-gen-1992 | Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, Saveria; Tucciarone, A. | |
Electron scattering in microstructure processes | 1-gen-1992 | Messina, G.; Paoletti, A.; Santangelo, S; Tucciarone, A. | |
The generalized backscattering coefficient: a novel parameter in electron scattering processes | 1-gen-1992 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
Simulation of electron-scattering properties of diamond membranes in X-ray mask fabrication | 1-gen-1993 | Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria | |
“Monte Carlo evaluation of proximity effect reduction in x-ray reflection masks having diamond substrates” | 1-gen-1993 | Messina, Giacomo; A., Paoletti; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria | |
“A new electron scattering model for x-ray lithography applications” | 1-gen-1993 | Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
Short-range and long-range scattering in electron beam lithography | 1-gen-1993 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
“Evaluation of electron scattering in high-resolution x-ray mask fabrication” | 1-gen-1993 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
“Experimental test of high-resolution process modelling in electron-beam lithography at 25 to 50 keV” | 1-gen-1993 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
Electron scattering of low-Z high-density materials in X-ray mask patterning | 1-gen-1993 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
Perspectives in electron scattering by microstructures | 1-gen-1993 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
Electron scattering of diamond membranes in x-ray mask fabrication | 1-gen-1993 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
Ulisation of diamond substrates in microstructure fabrication by electron beam lithography | 1-gen-1994 | Messina, Giacomo; A., Tucciarone; Santangelo, Saveria | |
Maschere per litografia X a proiezione con substrati di diamante | 1-gen-1994 | Messina, G.; Santangelo, Saveria; Paoletti, A.; Tucciarone, A. | |
Tungsten/carbon masks in x-ray projection lithography | 1-gen-1994 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
The role of electron scattering in x-ray reflection-masks | 1-gen-1994 | Messina, G; Paoletti, A.; Santangelo, S.; Tucciarone, A. | |
Monte Carlo modelling of electron beam lithography: a scaling law | 1-gen-1994 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo | |
Simulation of electron-scattering properties of diamond membranes in X-ray mask fabrication | 1-gen-1994 | Messina, G; Santangelo, S.; Paoletti, A.; Tucciarone, A. | |
Scaling laws of electron backscattering for microstructure design | 1-gen-1994 | A., Paoletti; Santangelo, Saveria; A., Tucciarone; Messina, Giacomo |
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